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设备推荐

特色设备

锂电池关键材料及电极片的截面制样
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氩离子抛光技术又称CP(cross-section polisher)截面抛光技术,是利用氩离子束对样品表面进行抛光,可以获得表面平滑的样品,而不会对样品造成机械损害,从而得到高质量样品,可用于在 SEM,SPM上进行成像、EDS、EBSD、TOF-SIMS或其它分析。
高分辨冷场发射扫描电镜(SEM)
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探索微观世界的奥秘是人类几千年来的愿望和追求,两千年前人们发现透明物体具有一定的放大作用,后经历代物理学家的不懈努力制造出了光学显微镜,打开人类认知微观世界的大门。
X射线荧光光谱仪(XRF)
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自1895年伦琴发现X射线以来,X射线及相关技术的研究和应用取得了丰硕成果。其中,1910年特征X射线光谱的发现,为X射线光谱学的建立奠定了基础;20世纪50年代商用X射线发射与荧光光谱仪的问世,使得X射线光谱学技术进入了实用阶段;60年代能量色散型X射线光谱仪的出现,促进了X射线光谱学仪器的迅速发展,并使现场和原位X射线光谱分析成为可能。
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)
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二次离子质谱(Secondary ion mass spectroscopy,简称SIMS)是一种表面分析技术,是基于一次离子与样品表面的相互作用。SIMS工作原理是指带有几千电子伏特能量的一次离子束入射样品表面,在作用区域激发出不同粒子包括二次电子、中性微粒、二次离子、反射离子等,如图1所示;通过不同的探测器采集不同微粒可得到不同信息,收集二次离子通过质量分析器分析后可得到关于样品表面成分信息的质谱,简称二次离子质谱。
表面分析技术之X射线光电子能谱仪(XPS/ESCA)
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二十世纪六十年代全金属超高真空(UHV)技术的商品化后,极大地促进了表面和界面科学的发展。发展出了多种表面分析技术,随后发展成为广泛使用的常用表面分析方法。三十多年来不断有新的分析技术和方法建立,这些技术覆盖了电子和离子谱、表面结构测定方法、以及原子成像方法。表面科学研究表面和表面有关的宏观和微观过程,从原子水平来认识和说明表面原子的化学、几何排列、运动状态、电子态等性质及其与表面宏观性质的联系。
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