版权所有©天目湖先进储能技术研究院 2019 网站建设:中企动力 常州 备案号:苏ICP备14056531号-1号
X射线光电子能谱仪
生产厂家:
日本ULVAC-PHI,INC
设备型号:
PHI 5000 VersaProbe III
设备简介:
可在真空或惰性气体环境下从手套箱或其它设备中转移样品,送入分析室进行分析,保护样品表面在分析前不受环境气氛影响;通过使用X射线入射固体样品表面并采集从样品表面产生的光电子,提供表面的元素成分、元素化学状态信息。
样品要求:
1.粉末样品需200mg以上;
2.如为块体、薄膜则长、宽、高分别不要超过20mm、10mm、5mm。
主要技术指标:
1. 能量分辨率:Ag3d5/2峰位FWHM < 0.48eV;C1s谱中O=C-O峰位FWHM < 0.82eV;
2. 最小x-ray 束斑:10.0μm(x轴);10.0μm (y轴) ;
3. Ar离子溅射枪最大束流:>5.0μA @5kV;
4. Ar离子/C60离子溅射枪差分气压:< 6.7x10-6 Pa (5x10-8Torr);
5. Ar气团簇离子枪的最大电流:>40nA @ 20kV ;
6. Ar气团簇离子最小束斑:500 μm @ 20 kV;
7. 样品台的冷热性能:-140°C~500°C。
服务范围:
无机化合物、合金、聚合物、能源电池、表面缺陷(腐蚀,异物,污染,分布不均等)、表面多层薄膜等。
样品转移:
可选真空转移系统