版权所有©天目湖先进储能技术研究院 2019                                                                                                                                  网站建设:中企动力 常州  备案号:苏ICP备14056531号-1号

特色设备

X射线光电子能谱仪

X射线光电子能谱仪

(XPS)
没有此类产品
设备预约
设备描述

生产厂家:

日本ULVAC-PHI,INC

 

设备型号:

PHI 5000 VersaProbe III

 

设备简介:

可在真空或惰性气体环境下从手套箱或其它设备中转移样品,送入分析室进行分析,保护样品表面在分析前不受环境气氛影响;通过使用X射线入射固体样品表面并采集从样品表面产生的光电子,提供表面的元素成分、元素化学状态信息。

 

样品要求:

1.粉末样品需200mg以上;

2.如为块体、薄膜则长、宽、高分别不要超过20mm、10mm、5mm。

 

主要技术指标:

1. 能量分辨率:Ag3d5/2峰位FWHM < 0.48eV;C1s谱中O=C-O峰位FWHM < 0.82eV; 

2. 最小x-ray 束斑:10.0μm(x轴);10.0μm (y轴) ;

3. Ar离子溅射枪最大束流:>5.0μA @5kV;

4. Ar离子/C60离子溅射枪差分气压:< 6.7x10-6 Pa (5x10-8Torr); 

5. Ar气团簇离子枪的最大电流:>40nA @ 20kV ;

6. Ar气团簇离子最小束斑:500 μm @ 20 kV;

7. 样品台的冷热性能:-140°C~500°C。 

 

服务范围:

无机化合物、合金、聚合物、能源电池、表面缺陷(腐蚀,异物,污染,分布不均等)、表面多层薄膜等。

 

样品转移:

可选真空转移系统

 

天目湖

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
暂未实现,敬请期待
暂未实现,敬请期待