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特色设备

扫描俄歇纳米探针

扫描俄歇纳米探针

(AES)
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设备描述

设备名称:

扫描俄歇纳米探针 Scanning Auger Nanoprobe

 

设备型号:

PHI 710

 

厂家:

日本ULVAC-PHI公司

 

设备简介:

710的核心分析能力为25kV肖特基热场发射电子源,其与筒镜式电子能量分析器(CMA)同轴设计。除了拥有这一项核心技术,系统还包括闪烁二次电子探测器、高性能低能浮式氩溅射离子枪、高精度全自动五轴样品台以及PHI创新的仪器控制和数据处理软件包:SmartSoft AES™和MultiPak™。

 

技术参数:

1.采用1-25 kV稳定的肖特基场发射源;

2.二次电子成像可达4096×4096像素的分辨率;

3.空间分辨率:8 nm;

4.采集深度:5-75 Å;

5.成分检出限:0.1atom %;

6.采集信息:元素(Li~U)部分化学态。

 

功能特色:

1.X和Y轴的±25 mm平移可分析50 mm样品表面而无需旋转(倾斜0º),Z 轴可进行20 mm平移和0º至60º倾斜(当使用60毫米样品托时倾斜不能超过5º);

2.针对不同形貌样品分析保持稳定的灵敏度,且高灵敏度下图像稳定;

3.分析绝缘材料在高倾斜角时具有高灵敏度分析能力;

4.PHI CMA 高能量分辨模式下进行化学态分析:图谱采集,成像,深度剖析。

 

样品要求:

1.形态和尺寸要求:固体块状样品和薄膜样品,长度小于10 mm,高度小于5 mm,粉体样品可通过导电胶或压成薄片后固定在样品台上,液体样品可作为薄膜涂在导电物质上进行蒸发干燥处理后固定在样品台上;

2.样品成分要求:样品无磁性、无挥发性气体产生、无腐蚀性,对于表面有油等有机物污染的样品须去除干净样品表面污染物。

 

应用范围:

用于分析固体材料表面纳米深度的元素(部分化学态)成分组成,可以对纳米级形貌进行观察和成分表征。既可以分析原材料(粉末颗粒,片材等)均匀表面组成,又可以分析材料或特定产品表面缺陷如污染,腐蚀,掺杂,吸附、杂质偏析等,还具备深度剖析功能表征钝化层,掺杂深度,纳米级多层膜层结构等。

 

天目湖

 

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