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特色设备

GATAN离子束切割抛光镀膜系统

GATAN离子束切割抛光镀膜系统

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设备描述

设备名称:

离子束切割抛光镀膜系统Ion Beam Cutting Polishing Coating System

 

设备型号:

No.685

 

厂家:

美国GATAN公司

 

设备简介:

GATAN离子束切割抛光镀膜系统是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。

 

技术参数:

1.离子源:离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪,高性能无耗材,抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节,离子束能量100 eV 到 8.0 keV,离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节;

2.样品台:样品大小:最大直径 32mm,最大高度 15mm,样品装载:对于截面样品抛光采用 Ilion™ II 专利的样品挡板,二次再加工位置精确,样品抛光及镀膜功能:兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能,靶材数:2个,靶材切换:无需破坏真空,可直接切换样品旋转:1 到 6 rpm 可调,束流调制:角度可调的单束调制或双束调制;

3.真空系统:干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵,压力:5 x 10-6 torr 基本压力,8 x 10-5 torr 工作压力,真空规冷阴极型用于主样品室;固体型用于前级机械泵,样品空气锁Whisperlok专利技术,无需破坏主样品室真空即可装卸样品,样品交换时间< 1 min;

4.用户界面:10 英寸触摸屏操作简单,且能够完全控制所有参数和配方式操作,操作界面语言提供中文、英文等多种选择。

 

功能特色:

1.两支聚集离子枪,离子枪无任何耗材;

2.多功能,离子束平面抛光+截面切割+高精度镀膜+膜厚测量;

3.抛光镀膜在同一真空系统,可抛光完成直接镀碳研究;

4.抛光区域>10mm;

5.全自动触屏控制,配方式操作,制氧重复性高;

6.标配液氮冷台,去除热效应对样品的损伤。

 

样品要求:

样品大小:最大直径 32mm,最大高度 15mm

 

应用范围:

用于EBSD样品制备;截面样品制备;

金属材料(合金,镀层);

石油地质岩石矿物;

光电材料;

化工高分子材料;新能源电池材料。

 
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